光照射システム
- 開放特許情報番号
- L2021000424
- 開放特許情報登録日
- 2021/4/7
- 最新更新日
- 2021/4/7
基本情報
出願番号 | 特願2014-112541 |
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出願日 | 2014/5/30 |
出願人 | 株式会社ユピテル、株式会社ユピテル鹿児島 |
公開番号 | |
公開日 | 2015/12/17 |
登録番号 | |
特許権者 | 株式会社ユピテル、株式会社ユピテル鹿児島 |
発明の名称 | 光照射システム |
技術分野 | 機械・加工、輸送 |
機能 | 機械・部品の製造 |
適用製品 | 対象物を照らし出すために使用する光照射システム |
目的 | 遠方から近方にかけて効率的に照らし出すことができる光照射システムを提供する。 |
効果 | 遠方から近方にかけて効率的に照らし出すことができる光照射システムを提供することが可能となる。 |
技術概要![]() |
撮像手段と、
前記撮像手段の周囲に設けられ前記撮像手段の撮像方向へ赤外線を照射する光照射手段とを備える装置であって、 前記光照射手段の前面には、前記光照射手段から照射される赤外線の透過を許容するとともに、前記光照射手段を肉眼で視認させないようにするため可視光を吸収又は反射させる第一のカバー体を配置するとともに、前記撮像手段の前面には前記第一のカバー体を配置せず、 前記第一のカバー体を配置していない前記撮像手段の撮像方向の領域と、前記第一のカバー体を配置している前記光照射手段の前面側の領域とに渡って、前記光照射手段から照射される赤外線の透過を許容し、かつ、前記光照射手段を肉眼で視認させにくくするため当該装置の外側からの可視光を反射させるとともに、前記撮影手段の撮影機能を阻害しにくく、かつ、前記撮影手段を肉眼で視認させないようにするための平面状のハーフミラーを有する第二のカバー体を着脱可能に配置した装置。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【可】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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