ヒ素含有硫酸の再生方法

開放特許情報番号
L2021000410
開放特許情報登録日
2021/3/25
最新更新日
2021/3/25

基本情報

出願番号 特願2003-200218
出願日 2003/7/23
出願人 前澤工業株式会社
公開番号 特開2005-041707
公開日 2005/2/17
登録番号 特許第4336845号
特許権者 前澤工業株式会社
発明の名称 ヒ素含有硫酸の再生方法
技術分野 化学・薬品、無機材料、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 ヒ素含有硫酸の再生方法
目的 ヒ素濃度が1000ppm以下の希薄ヒ素を含有した硫酸からヒ素を効率よく除去することができ、硫酸を再生して有効に再利用することができるヒ素含有硫酸の再生方法を提供する。
効果 ヒ素含有硫酸の再生方法によれば、硫酸中に溶存しているヒ素を効率よく除去することができる。特に500ppm以下の希薄ヒ素も簡単な操作で効率よく除去することができる。
技術概要
 
ヒ素濃度が1000ppm以下である希薄ヒ素を含有する硫酸からヒ素を除去して硫酸を再生する方法であって、少なくとも硫化ヒ素又は硫化銅のいずれかの添加物の存在下で前記希薄ヒ素含有硫酸を硫化水素ガスと接触させることによりヒ素を固形硫化ヒ素に変換し、次いで固液分離手段により前記固形硫化ヒ素を除去して再生硫酸を得ることを特徴とするヒ素含有硫酸の再生方法。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 前澤工業株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2021 INPIT