プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

開放特許情報番号
L2021000395
開放特許情報登録日
2021/4/5
最新更新日
2021/4/5

基本情報

出願番号 特願2019-031271
出願日 2019/2/25
出願人 国立大学法人金沢大学
公開番号 特開2020-136199
公開日 2020/8/31
発明の名称 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
目的 プラズマの生成効率に優れた回転電極型のプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。
効果 プラズマの生成効率に優れた回転電極型のプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法が得られる。
技術概要
誘電体で構成された反応容器と、
前記反応容器に設けられた固定電極と、
前記反応容器の内面との間に空隙を保って回転可能なN枚(Nは自然数)の羽根を有する回転電極と、
前記回転電極を回転させる回転器と、
前記固定電極と前記回転電極との間に交流電界を形成する交流電源と、を備え、
前記交流電界の半周期を前記回転電極の回転周期のN分の1で除した値である掃引率が1以上かつ2.5以下である、
プラズマ処理装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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