微小金属粒子含有セラミックキャパシタの製造方法

開放特許情報番号
L2021000349
開放特許情報登録日
2021/3/23
最新更新日
2021/3/23

基本情報

出願番号 特願2013-174893
出願日 2013/8/26
出願人 国立大学法人山梨大学
公開番号 特開2015-043389
公開日 2015/3/5
登録番号 特許第6236706号
特許権者 国立大学法人山梨大学
発明の名称 微小金属粒子含有セラミックキャパシタの製造方法
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 微小金属粒子が誘電体層に分散したセラミックキャパシタの製造方法
目的 高温での熱処理を必要とし使用できる金属の種類が制限されることや、還元ガスをフローさせる必要があることなどの課題を解決する。
効果 微小金属粒子が誘電体層に高濃度で分散した構造を持つセラミックキャパシタを低温で作製することができ、高温での熱処理を必要としないので使用できる金属に制限が少なく、また還元ガスを用いる必要がないため製造装置を簡単な構造にすることができコストの低減が図れる。
技術概要
金属を含む微小粒子と第1の誘電体の前駆体とを混合する、又は金属を含む微小粒子と第1の誘電体の前駆体と第2の誘電体とを混合するステップと、
前記混合した混合物をペレット状に成型するステップと、
前記成型したペレットを水熱処理又はソルボサーマル処理を行い、前記第1の誘電体の前駆体を第1の誘電体に変化させるステップと、
を備えたことを特徴とする微小金属粒子含有セラミックキャパシタの製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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