誤差補正方法及び二次元偏光解析法、並びに誤差補正装置及び二次元偏光解析装置

開放特許情報番号
L2021000316
開放特許情報登録日
2021/3/18
最新更新日
2021/3/18

基本情報

出願番号 特願2017-027524
出願日 2017/2/17
出願人 国立大学法人山梨大学
公開番号 特開2018-132467
公開日 2018/8/23
登録番号 特許第6805469号
特許権者 国立大学法人山梨大学
発明の名称 誤差補正方法及び二次元偏光解析法、並びに誤差補正装置及び二次元偏光解析装置
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造
適用製品 誤差補正方法及び二次元偏光解析法、並びに誤差補正装置及び二次元偏光解析装置
目的 一回の二次元計測により測定対象物の反射光の偏光状態の変化を迅速かつ高精度に測定するための誤差補正方法及び二次元偏光解析法、並びに誤差補正装置及び二次元偏光解析装置を提供する。
効果 一回の二次元計測により測定対象物の反射光の偏光状態の変化を迅速かつ高精度に測定するための誤差補正方法及び二次元偏光解析法、並びに誤差補正装置及び二次元偏光解析装置を提供することができる。
技術概要
偏光子及び位相子をそれぞれの条件を変えて光変調した光を測定対象物に照射し、前記測定対象物から反射し検光子を通過した光の二次元画像を受光手段により受光して、下記数式(1)で表される前記二次元画像のピクセル毎の光強度Iを求める光強度測定工程と、
前記位相子のリタデーションの製造誤差εδ、前記位相子の主軸方位の初期誤差εQ、及び前記偏光子の透過軸方位の初期誤差εPがあるときに、前記εδ、前記εQ、及び前記εPにより、前記数式(1)を下記数式(2)に補正し、前記数式(2)から前記εδ、前記εQ、及び前記εPを求める誤差算出工程と、
を含むことを特徴とする誤差補正方法。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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