多層構造体とその製造方法及び利用方法

開放特許情報番号
L2021000079
開放特許情報登録日
2021/1/18
最新更新日
2021/1/18

基本情報

出願番号 特願2019-517641
出願日 2018/5/8
出願人 学校法人慶應義塾
公開番号 WO2018/207783
公開日 2018/11/15
発明の名称 多層構造体とその製造方法及び利用方法
技術分野 食品・バイオ
機能 材料・素材の製造
適用製品 多層構造体とその製造方法及び利用方法
目的 低コストで簡易に作製可能であり、足場材料が多層化されたインビトロ培養デバイスである多層構造体とその製造方法及び利用方法を提供する。
効果 足場材料が多層化されたインビトロ培養デバイスである多層構造体を、低コストで簡易に作製可能である。
技術概要
細胞外マトリックスで構成された管状構造の層が複数積層されてなる多層構造の管状体を有する多層構造体。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 学校法人慶應義塾

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2021 INPIT