多層構造体とその製造方法及び利用方法

開放特許情報番号：L2021000079 開放特許情報登録日：2021/1/18 最新更新日：2022/12/13

基本情報

出願番号

公開番号

WO2018/207783

登録番号

出願日

2018/5/8

公開日

2018/11/15

出願人

慶應義塾

特許権者

慶應義塾

権利化状況

権利化済

発明の名称

多層構造体とその製造方法及び利用方法

開放特許情報

技術分野

食品・バイオ

機能

材料・素材の製造

適用製品

多層構造体とその製造方法及び利用方法

目的

低コストで簡易に作製可能であり、足場材料が多層化されたインビトロ培養デバイスである多層構造体とその製造方法及び利用方法を提供する。

効果

足場材料が多層化されたインビトロ培養デバイスである多層構造体を、低コストで簡易に作製可能である。

技術概要

細胞外マトリックスで構成された管状構造の層が複数積層されてなる多層構造の管状体を有する多層構造体。

イメージ図

実施実績　　　：

無

許諾実績　：

無

特許権譲渡　　：

否

特許権実施許諾：

可

登録者情報

登録者名称

その他の情報