ハイブリッド液晶流動形成機構、ハイブリッド液晶流動形成方法および液晶流動を用いたハイブリッド物体移動機構
- 開放特許情報番号
- L2021000059
- 開放特許情報登録日
- 2021/1/28
- 最新更新日
- 2021/1/28
基本情報
| 出願番号 | 特願2008-029596 |
|---|---|
| 出願日 | 2008/2/8 |
| 出願人 | 公立大学法人高知工科大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2009/8/20 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 高知県公立大学法人 |
| 発明の名称 | ハイブリッド液晶流動形成機構、ハイブリッド液晶流動形成方法および液晶流動を用いたハイブリッド物体移動機構 |
| 技術分野 | 機械・加工 |
| 機能 | 機械・部品の製造 |
| 適用製品 | ハイブリッド液晶流動形成機構、ハイブリッド液晶流動形成方法および液晶流動を用いたハイブリッド物体移動機構 |
| 目的 | 工業的に利用可能な液晶流動を形成することができ、しかも、その流量や運動量を増加させることができるハイブリッド液晶流動形成機構およびハイブリッド液晶流動形成方法、および液晶流動を利用したハイブリッド物体移動機構を提供する。 |
| 効果 | 発生する液晶流動の流量や流動方向をコントロールすることができるから、液晶流動をより工業的に利用しやすくすることができる。 |
技術概要) |
流路と、
該流路の壁面に沿って移動可能に設けられた液晶と、 該液晶の液晶分子に対して電界または磁界を加えて、該液晶の液晶分子を前記流路における一の壁面と交わる面内で回転させる液晶分子回転手段とからなり、 前記液晶分子回転手段が、 前記流路の一の壁面と交差する方向から、該液晶の液晶分子に対して電界または磁界を加える回転手段と、 前記流路における一の壁面に設けられた拘束手段と、 前記回転手段が前記液晶の液晶分子に対して電界または磁界を加える方向と交差する方向から、該液晶の液晶分子に対して電界または磁界を加える復帰手段と、を備えており、 該拘束手段は、 前記液晶の液晶分子に対して前記回転手段から電界または磁界を加えられたときにおいて、各液晶分子がそれぞれ一方向にのみ回転するように前記一の壁面近傍に位置する液晶分子の運動を拘束するものである ことを特徴とするハイブリッド液晶流動形成機構。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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