| 出願番号 |
特願2011-177432 |
| 出願日 |
2011/8/15 |
| 出願人 |
日本酸素ホールディングス株式会社 |
| 公開番号 |
特開2013-039521 |
| 公開日 |
2013/2/28 |
| 登録番号 |
特許第5750337号 |
| 特許権者 |
大陽日酸株式会社 |
| 発明の名称 |
ガス処理方法、ガス処理装置、微粉末の形成方法及び微粉末形成装置 |
| 技術分野 |
無機材料、電気・電子 |
| 機能 |
材料・素材の製造、洗浄・除去 |
| 適用製品 |
半導体、液晶パネル、太陽電池に用いられるシランガス |
| 目的 |
コストの上昇を抑えつつ、従来よりも簡便にケイ素の水素化物を含む気体中からケイ素の水素化物を除去する。 |
| 効果 |
気泡径を１０μｍ以下にすることにより、水圧によって更に気泡は収縮し、それに伴って気泡内部の圧力が上昇して気泡の温度が上昇するため、ケイ素の水素化物と水とを反応させることができる。したがって、コストの上昇を抑えつつ、従来よりも簡便に、ケイ素の水素化物を含む気体中からケイ素の水素化物を除去することができる。 |
技術概要
 |
ケイ素と水素のみからなるシラン化合物を含む気体中から、燃料ガス、吸着材及び薬剤を用いることなく、前記シラン化合物を除去するガス処理方法であって、 ベンチュリ構造部を含むノズルを用いて前記シラン化合物を含む気体と水とが共に流れる気泡流を水中に噴射するとともに、 前記ベンチュリ構造部の喉部において、前記気泡流の流速を音速以上とし、当該シラン化合物を含む気体からなる直径１０μｍ以下の気泡を水中で発生させて、 前記シラン化合物を含む気体からなる直径１０μｍ以下の気泡と水とを接触させる。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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