| 出願番号 |
特願2002-356279 |
| 出願日 |
2002/12/9 |
| 出願人 |
日本フイルコン株式会社 |
| 公開番号 |
特開2004-190057 |
| 公開日 |
2004/7/8 |
| 登録番号 |
特許第4104964号 |
| 特許権者 |
日本フイルコン株式会社 |
| 発明の名称 |
パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法 |
| 技術分野 |
金属材料、電気・電子 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
薄膜パターン形成用マスクとその製造方法 |
| 目的 |
従来のメタルマスクを用いる場合の精度の低下を除去し、フォトリソグラフを用いた場合のコストの上昇を除いた、新しい積層構造の薄膜パターン形成用のマスクとその製造方法を提供する。 |
| 効果 |
フォトエッチング法によるメタルマスクのコストメリットとフォトリソグラフィ法によるリフトオフの形状及び寸法安定性を具備した新規なマスクであり、少ない工数で比較的容易に高精度の微細パターンを形成することができ、繰り返し使用することもでき経済的に安価で、従来の薄膜パターン形成用マスクと比べて種々の面で優れた効果を奏する。 |
技術概要
 |
被成膜基板に薄膜パターン形成用マスクのマスク被膜側を着接させ、マスクの支持体側からスパッターリングや蒸着を行いマスク被膜の開口パターンに則した形状の機能薄膜を形成する薄膜パターン形成用マスクの製造方法において、マスク支持体の金属板の片面に感光性高分子膜を形成し、該感光性高分子膜にマスク被膜パターンを露光し、現像工程とキュア工程を行って金属板の片面に硬化した高分子膜のマスク被膜パターンを形成し、ついで、マスク支持体の金属板の反対面にマスク被膜パターンに対応した金属板エッチング用レジストパターンを配設し、マスク被膜とレジスト被膜をエッチングレジストとして金属板の両面からエッチング処理を行って金属板に被膜パターンに対応した貫通した開口を形成し、ついでエッチング用レジストパターンを除去することを特徴とする積層構造の上記薄膜パターン形成用マスクの製造方法。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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