ポリマー構造の製造方法

開放特許情報番号

L2020002306

開放特許情報登録日

2020/11/2

最新更新日

2020/11/2

基本情報

出願番号	特願2016-060766
出願日	2016/3/24
出願人	日本放送協会
公開番号	特開2017-173628
公開日	2017/9/28
登録番号	特許第6739958号
特許権者	日本放送協会
発明の名称	ポリマー構造の製造方法
技術分野	情報・通信
機能	材料・素材の製造
適用製品	ポリマー構造の製造方法
目的	ハードマスクを利用したエッチングが可能な、ポリマー構造の製造方法を提供する。特に、ポリマー光導波路デバイスの製造に有利な、低温プロセスにおいてもハードマスクを使用可能な、ポリマー微細構造の製造方法を提供する。
効果	ハードマスクを利用してポリマー層を所望の形状にパターニングすることができ、ポリマーの微細構造を作製することができる。また、この製造方法を利用し、９０℃以下の低温プロセスでポリマーの微細加工を行うことができ、ＥＯポリマー材料を含むポリマー光導波路デバイスについて、アスペクト比が高く微細な構造を形成することが可能となる。
技術概要	基板上に、電気光学特性を有するポリマー層と、ポリマー層に対して選択的に除去可能な第１のポリマー保護層と、第１のポリマー保護層よりも緻密な第２のポリマー保護層と、ハードマスク材料層と、感光性層とを、順次積層した積層体を準備する段階と、 感光性層を露光・現像して、所定のパターンに形成する段階と、 所定のパターンに形成された前記感光性層をマスクとして、ハードマスク材料層をエッチングし、所定のパターンのハードマスクを形成する段階と、 ハードマスクをマスクとして、第２のポリマー保護層、第１のポリマー保護層、ポリマー層を順次エッチングして、基板の一部を曝す段階と、 ハードマスクをエッチングして除去する段階と、 第１のポリマー保護層の残存部分を除去し、基板上に、所定のパターンに形成されたポリマー層を生成する段階と、 を含む、ポリマー構造の製造方法であって、 第２のポリマー保護層は、感光性層の溶剤には溶解せず、気相から分子単位で成長するポリマー材料からなり、 全ての段階において、電気光学特性を有するポリマー層の転移温度以下の温度で処理することを特徴とするポリマー構造の製造方法。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	一般財団法人　ＮＨＫ財団

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】