気相成長装置及び気相成長用加熱装置
- 開放特許情報番号
- L2020002047
- 開放特許情報登録日
- 2020/12/16
- 最新更新日
- 2020/12/16
基本情報
出願番号 | 特願2013-144928 |
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出願日 | 2013/7/10 |
出願人 | 古河機械金属株式会社 |
公開番号 | |
公開日 | 2015/1/29 |
登録番号 | |
特許権者 | 古河機械金属株式会社 |
発明の名称 | 気相成長装置及び気相成長用加熱装置 |
技術分野 | 電気・電子、金属材料 |
機能 | 機械・部品の製造 |
適用製品 | 気相成長装置及び気相成長用加熱装置 |
目的 | ヒータケースが熱膨張した場合にヒータケース及びそれを支持する支持部に作用する応力を抑制することが可能な気相成長装置及び気相成長用加熱装置を提供する。 |
効果 | ヒータを覆うケースが熱膨張した場合にケース及びそれを支持する支持部に作用する応力を抑制することができる。 |
技術概要![]() |
基板の少なくとも一方の面に気相成長により堆積物を形成可能なように前記基板を支持する盤状のサセプタと、
前記サセプタの一方の面に対して対向する位置に配置され、前記サセプタを加熱するヒータと、 前記ヒータを覆うヒータケースと、 前記ヒータケースを支持する複数の支持部と、 を備え、 前記ヒータケースは、前記ヒータと対向して配置された面状の対向部を有し、 前記対向部には、前記複数の支持部の各々と対応する貫通穴が形成され、 前記複数の支持部は、それぞれ対応する前記貫通穴を貫通しているとともに、前記対向部における前記貫通穴の周囲縁部を支持しており、 前記貫通穴の各々は、前記対向部の面直方向に前記ヒータケースを見たときの前記ヒータケースの外形線上の一点から、前記外形線に囲まれる形状の重心へ向かう方向へと、前記支持部が相対的に移動することを許容する形状に形成されている気相成長装置。 |
実施実績 | 【有】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【可】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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