表面欠陥検査装置および表面欠陥検査方法

開放特許情報番号
L2020001794
開放特許情報登録日
2020/9/9
最新更新日
2020/9/9

基本情報

出願番号 特願2013-180787
出願日 2013/8/31
出願人 国立大学法人豊橋技術科学大学
公開番号 特開2015-049133
公開日 2015/3/16
登録番号 特許第6371044号
特許権者 国立大学法人豊橋技術科学大学
発明の名称 表面欠陥検査装置および表面欠陥検査方法
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造
適用製品 表面欠陥検査装置および表面欠陥検査方法
目的 立体的な形状の評価対象物についても表面欠陥を検出し得る装置および方法を提供する。
効果 光源の位置(光の照射角度)を適宜変更させることができることから、評価対象物の形状に応じて鏡面反射の領域が異なる画像を取得することができる。そして、その鏡面反射の領域を削除することにより、かつ複数の画像を合成することにより、評価対象物の特定の姿勢における表面欠陥を画像中に検出することが可能となる。
技術概要
立体的な評価対象物の表面欠陥を検査する装置であって、
複数の光源と、
撮影手段と、
支持部と、
対象物姿勢制御手段と、
光源制御手段と、
画像分析手段とを備え、
光源制御手段は、評価対象物の下記式で表される表面反射モデルにより計算された表面反射に基づき、鏡面反射の領域が相互に重複せず、かつ欠陥の反射が少なくとも2つの光源の反射計算結果に存在するものとなる複数の表面画像を得られる光源位置が予め計算され、その計算結果に基づいて、所定の光源位置に複数の光源を配置するものであり、
【数3】

画像分析手段は、複数の表面画像について、反射モデルによって鏡面反射を削除し、複素数離散ウエーブレット変換を施して、ノイズを除去した後、全ての画像を合成して合成画像を作成し、該合成画像をモルフォロジー処理により評価対象物の輪郭線および表面欠陥を鮮鋭化させた処理画像を作成し、リファレンス画像とのパターンマッチングにより欠陥を抽出するとともに、欠陥の大きさを計算し、該欠陥の大きさに対する閾値に基づき良および不良を判定するものであることを特徴とする表面欠陥検査装置。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2020 INPIT