細線導波路付2次元フォトニック結晶の製造方法

開放特許情報番号
L2020001646
開放特許情報登録日
2020/8/19
最新更新日
2020/8/19

基本情報

出願番号 特願2003-409209
出願日 2003/12/8
出願人 国立大学法人京都大学、TDK株式会社
公開番号 特開2005-172933
公開日 2005/6/30
登録番号 特許第3920260号
特許権者 国立大学法人京都大学
発明の名称 細線導波路付2次元フォトニック結晶の製造方法
技術分野 情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 波長分割多重通信等の分野において分合波器等に用いられる2次元フォトニック結晶、特に結晶外部に光を導出又は導入するための細線導波路を接続した細線導波路付2次元フォトニック結晶の製造方法
目的 2次元フォトニック結晶のスラブは上下共に空気に接し、該2次元フォトニック結晶に接続された細線導波路の下部にはクラッド部材が設けられた細線導波路付2次元フォトニック結晶を製造する方法であって、2次元フォトニック結晶が有する結晶内導波路と細線導波路との位置関係のずれが生じない製造方法を提供する。
効果 エアブリッジ空洞を形成した後に、エアブリッジ空洞の外側に細線導波路を形成するため、細線導波路の下部には確実にクラッド層が接するようにすることができる。
2次元フォトニック結晶の下部には確実にエアブリッジ空洞が接するようにすることができる。
2次元フォトニック結晶の上下に存在する空気とスラブとの屈折率の差により、光をスラブの面に垂直な方向に閉じこめて光の損失を最小限に抑えることができる。
技術概要
スラブ層とクラッド層が積層して成る板材から、導波路を有する2次元フォトニック結晶と該導波路に接続された細線導波路とから成る細線導波路付2次元フォトニック結晶を製造する方法であって、
a)スラブ層にエッチング剤導入用空孔を形成する空孔形成工程、
b)エッチング剤導入用空孔を通してエッチング剤を導入することにより、エッチング剤導入用空孔の周囲のクラッド層をエッチングして該クラッド層に空洞を形成するエアブリッジ空洞形成工程、
c)前記空洞に面するスラブ層に空孔を周期的に設け、該空孔を設けた領域の外縁からその内側に向けて結晶内導波路を形成することにより2次元フォトニック結晶を形成すると共に、該空孔を設けた領域の外縁からその外側に向けて前記結晶内導波路の延長上に所定の幅だけスラブ層を残し、その周囲のスラブ層を除去することにより細線導波路を形成する細線導波路付2次元フォトニック結晶形成工程、
の順に行うことを特徴とする細線導波路付2次元フォトニック結晶の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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