ヒ素の除去方法

開放特許情報番号
L2020001351
開放特許情報登録日
2020/6/30
最新更新日
2020/6/30

基本情報

出願番号 特願2004-035246
出願日 2004/2/12
出願人 前澤工業株式会社
公開番号 特開2005-224686
公開日 2005/8/25
登録番号 特許第4567344号
特許権者 前澤工業株式会社
発明の名称 ヒ素の除去方法
技術分野 化学・薬品、機械・加工
機能 洗浄・除去
適用製品 ヒ素の除去方法
目的 ヒ素濃度が10ppm以下の希薄ヒ素を含有した用水又は排水からヒ素を効率よく除去することができるヒ素の除去方法を提供する。
効果 ヒ素の除去方法によれば、用水又は排水中に溶存している希薄ヒ素を効率よく除去することができる。特に用水又は排水に添加する薬剤は微量であり、生成されるヒ素固形物の量が少なく、かつ、水質への影響を最小限にとどめることができる。
技術概要
 
希薄ヒ素を含有するヒ素含有水からヒ素を除去する方法において、前記ヒ素含有水に硫化剤を添加し、次いで接触材と接触させてヒ素を固形硫化ヒ素に変換しながら固液分離することを特徴とするヒ素の除去方法。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 前澤工業株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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