ヒ素含有硫酸の処理方法

開放特許情報番号
L2020001350
開放特許情報登録日
2020/6/30
最新更新日
2020/6/30

基本情報

出願番号 特願2003-200220
出願日 2003/7/23
出願人 前澤工業株式会社
公開番号 特開2005-040656
公開日 2005/2/17
登録番号 特許第4567303号
特許権者 前澤工業株式会社
発明の名称 ヒ素含有硫酸の処理方法
技術分野 化学・薬品、機械・加工
機能 洗浄・除去
適用製品 ヒ素含有鉱酸の処理方法
目的 ヒ素濃度が1000ppm以下の希薄ヒ素を含有した鉱酸からヒ素を効率よく除去することができるヒ素含有鉱酸の処理方法を提供する。
効果 ヒ素含有鉱酸の処理方法によれば、鉱酸中に溶存しているヒ素を効率よく除去することができる。特にヒ素濃度が1000ppm以下、さらには500ppm以下の希薄ヒ素も簡単な操作で効率よく除去することができる。
技術概要
 
希薄ヒ素を含有する鉱酸からヒ素を除去するヒ素含有鉱酸の処理方法であって、固形硫化ヒ素及び/又は硫黄の存在下で前記ヒ素含有鉱酸に硫化ナトリウム水溶液及び/又は水硫化ナトリウム水溶液を添加してヒ素を固形硫化ヒ素に変換し、次いで固液分離手段により前記固形硫化ヒ素を除去することを特徴とするヒ素含有鉱酸の処理方法。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 前澤工業株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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