照射計画装置、照射計画方法、および荷電粒子照射システム

開放特許情報番号
L2020001345
開放特許情報登録日
2020/6/30
最新更新日
2020/6/30

基本情報

出願番号 特願2018-076463
出願日 2018/4/11
出願人 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
公開番号 特開2019-180908
公開日 2019/10/24
発明の名称 照射計画装置、照射計画方法、および荷電粒子照射システム
技術分野 食品・バイオ
機能 機械・部品の製造
適用製品 イオン源で生成した荷電粒子を加速器で加速して標的に照射する荷電粒子照射システムの照射パラメータを決定するような照射計画装置、照射計画方法、および荷電粒子照射システム
目的 混合場のRBEを短時間で精度よく予測して照射パラメータを決定できる照射計画装置、照射計画方法、および荷電粒子照射システムを提供する。
効果 混合場のRBEを短時間で精度よく予測して照射パラメータを決定できる照射計画装置、照射計画方法、および荷電粒子照射システムを提供できる。
技術概要
データを記憶する記憶手段と、演算を行う演算手段とを備え、荷電粒子をペンシルビームとして照射する際の照射パラメータを作成する照射計画装置であって、
前記記憶手段は、
ドメインの線量平均比エネルギーであるドメイン線量平均比エネルギーと、
前記ドメインが多数含まれる細胞核の線量平均比エネルギーである細胞核線量平均比エネルギーと、
前記ドメインの飽和線量平均比エネルギーであるドメイン飽和線量平均比エネルギーを記憶する構成であり、
前記演算手段は、
前記ペンシルビームから着目位置に与えられる前記ドメイン線量平均比エネルギーと前記細胞核線量平均比エネルギーと前記ドメイン飽和線量平均比エネルギーから前記着目位置での生物効果を予測し、前記生物効果に基づいて前記照射パラメータを決定する
照射計画装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【有】   
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