サンプリング方法およびサンプリングシステム

開放特許情報番号
L2020001124
開放特許情報登録日
2020/6/29
最新更新日
2020/6/29

基本情報

出願番号 特願2016-096092
出願日 2016/5/12
出願人 国立大学法人東京工業大学
公開番号 特開2017-203713
公開日 2017/11/16
発明の名称 サンプリング方法およびサンプリングシステム
技術分野 情報・通信
機能 検査・検出
適用製品 低侵襲であるとともに、位置分解能に優れ、サンプルの性質に依存せず容易にサンプリングを行うことが可能なサンプリング方法およびサンプリングシステム
目的 サンプリングが行われる被対象物に対して極めて低侵襲であるとともに、位置分解能に優れ、サンプルの性質に依存せずに容易にサンプリングが可能なサンプリング方法およびサンプリングシステムを提供する。
効果 サンプリング方法によれば、サンプリングが行われる被対象物に対して極めて低侵襲であるとともに、位置分解能に優れ、サンプルの性質に依存せずに容易にサンプリングを行うことを可能とする。
技術概要
分析に供するサンプルを被対象物から得るためのサンプリング方法において、
前記被対象物の表面に対して、大気圧プラズマを接触させるとともに、前記被対象物に損傷を与えない強度の第1のレーザー光を照射して、前記被対象物の表面からサンプルを脱離させてサンプリングを行うことを特徴とするサンプリング方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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