マグネトロンスパッタガン及びマグネトロンスパッタ薄膜作製装置

開放特許情報番号
L2020001122
開放特許情報登録日
2020/6/29
最新更新日
2020/6/29

基本情報

出願番号 特願2018-050765
出願日 2018/3/19
出願人 国立大学法人東京工業大学
公開番号 特開2019-163495
公開日 2019/9/26
発明の名称 マグネトロンスパッタガン及びマグネトロンスパッタ薄膜作製装置
技術分野 金属材料
機能 機械・部品の製造
適用製品 マグネトロンスパッタガン及びマグネトロンスパッタ薄膜作製装置
目的 マグネトロンスパッタ薄膜作製装置のカソード部の温度上昇を抑制でき、更に、冷却水による冷却が不要であり設備コストを低減することのできるマグネトロンスパッタガンや、それを用いたマグネトロンスパッタ薄膜作製装置を提供する。
効果 マグネトロンスパッタ薄膜作製装置のカソード部の温度上昇を抑制でき、更に、冷却水による冷却が不要であり設備コストを低減することのできるマグネトロンスパッタガンや、それを用いたマグネトロンスパッタ薄膜作製装置を安価に提供することができる。
技術概要
シールドカバーと、ターゲットを保持するためのターゲット保持手段と、該ターゲットの表面上に磁場を発生させるための永久磁石と、該ターゲット及び該永久磁石を冷却するための冷却手段とを有するマグネトロンスパッタガンであって、該冷却手段が非水冷式の熱バラストであることを特徴とするマグネトロンスパッタガン。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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