ヒドリド供与基を有する多孔性配位高分子及びその前駆体

開放特許情報番号
L2020001045
開放特許情報登録日
2020/5/27
最新更新日
2020/5/27

基本情報

出願番号 特願2017-167599
出願日 2017/8/31
出願人 国立大学法人京都大学
公開番号 特開2019-043875
公開日 2019/3/22
発明の名称 ヒドリド供与基を有する多孔性配位高分子及びその前駆体
技術分野 有機材料、化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 ヒドリド供与基を有する多孔性配位高分子及びその前駆体
目的 水の存在下でも使用することができる、再生可能な還元剤を提供する。
効果 還元剤として使用することができる。また、ヒドリド供与基が多孔性配位高分子の骨格中に固定化されており、反応中間体であるラジカル種の二量化による失活が起こらず安定であるため、水の存在下でもヒドリド供与能力(還元能力)を有する。
技術概要
ヒドリド供与基を有する多孔性配位高分子であって、前記ヒドリド供与基が、下式:
【化1】

(式中、Rは、H、CH↓3、CONH↓2、COOH、又はCOCH↓3を示す。)
で表される、多孔性配位高分子。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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