| 出願番号 |
特願2005-363676 |
| 出願日 |
2005/12/16 |
| 出願人 |
国立大学法人 新潟大学、株式会社エムテーシー |
| 公開番号 |
特開2007-160282 |
| 公開日 |
2007/6/28 |
| 登録番号 |
特許第4644766号 |
| 特許権者 |
国立大学法人 新潟大学 |
| 発明の名称 |
非接触型被処理物回転処理装置 |
| 技術分野 |
機械・加工、電気・電子 |
| 機能 |
機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
薄板状物、特に基板を非接触で回転させ、その表面に薄膜を形成し、または表面を洗浄、乾燥する装置 |
| 目的 |
密封容器内のクリーン環境を汚染することがなく、保守及び修理交換を容易に行うことができる基板回転処理装置を提供する。 |
| 効果 |
回転ヘッド部と第二種超電導体の間に生じる磁気的ピン止め力により回転ヘッド部を浮上させ、その浮上した回転ヘッド部を非接触式回転動力伝達体により回転させることにより、密閉容器内に置かれた回転ヘッド部を容器内の雰囲気に影響を与えることなく容器外から回転操作するので、密閉容器内のクリーンな環境を維持したまま薄膜形成を行うことができ、薄板状物、特に半導体基板などの被処理物の品質を向上させることができる。 |
技術概要
 |
密閉容器内で被処理物を載置して回転する回転ヘッド部と、前記密閉容器の下方に配置された前記回転ヘッド部に対向する非接触式回転動力伝達体と、前記非接触式回転動力伝達体を同心円状に外囲する固定部とからなる非接触型基板回転処理装置であって、
前記回転ヘッド部は、非接触式回転力受動手段と、前記非接触式回転力受動手段を同心円状に外囲するリング状の永久磁石とを備え、
前記固定部は、前記リング状の永久磁石に対向するように同心円状に配設された第二種超電導体からなるピン止め体と、前記ピン止め体を冷却する冷却手段とを備え、
前記冷却手段で前記ピン止め体を臨界温度以下に冷却して前記リング状の永久磁石との間に磁気的ピン止め力を発生させて前記回転ヘッド部を所定の位置に磁気浮上させ、前記非接触式回転動力伝達体によって発生した回転力により前記回転ヘッド部側に対応して回転力を追従発生させて前記回転ヘッド部を回転させるように構成してなる非接触式被処理物回転処理装置。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【可】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
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