撮像装置及び製造方法
- 開放特許情報番号
- L2020000806
- 開放特許情報登録日
- 2020/4/24
- 最新更新日
- 2020/4/28
基本情報
| 出願番号 | 特願2012-051832 | ||
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| 出願日 | 2012/3/8 | ||
| 出願人 | 雫石 誠 | ||
| 公開番号 | |||
| 公開日 | 2012/10/18 | ||
| 登録番号 | |||
| 特許権者 | 雫石 誠 | ||
| 発明の名称 | 撮像装置及び製造方法 | ||
| 技術分野 | 電気・電子 | ||
| 機能 | 検査・検出 | ||
| 適用製品 | 画像診断装置、Ｘ線検査装置、大面積撮像装置 | ||
| 目的 | ＣＭＯＳセンサ等のシリコンを用いた撮像素子の撮像面積を拡大する。複数の撮像素子をタイル状に組み合わせた場合においても、撮像素子間の画素配列ピッチを均一に保つ。 | ||
| 効果 | 隣接する撮像素子間のつな合わせ部分における画素配列ピッチが受光領域内の画素ピッチと同等になり、受光面積を拡大した場合であっても画質の劣化を防止できる。 | ||
技術概要) |
二つの撮像素子のつな合わせ部分における素子分離領域の幅の合計に二つの撮像素子間の間隙の寸法を加えた値の合計が受光領域内の素子分離領域の幅と同一である撮像装置とその製造方法。 | ||
| 実施実績 | 【無】 | ||
| 許諾実績 | 【無】 | ||
| 特許権譲渡 | 【可】 | ||
| 特許権実施許諾 | 【可】
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登録者情報
| 登録者名称 | |
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技術供与
| 技術指導 | 【可】
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その他の情報
| 関連特許 |
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