シリコンナノ粒子の製造方法

開放特許情報番号
L2020000761
開放特許情報登録日
2020/4/16
最新更新日
2020/4/16

基本情報

出願番号 特願2016-174578
出願日 2016/9/7
出願人 学校法人東京電機大学
公開番号 特開2018-039695
公開日 2018/3/15
発明の名称 シリコンナノ粒子の製造方法
技術分野 化学・薬品、機械・加工
機能 材料・素材の製造、機械・部品の製造
適用製品 シリコンナノ粒子の製造方法
目的 より均一な量子ドット特性を奏するシリコンナノ粒子を得ることのできる、化学エッチング法によるシリコンナノ粒子の製造方法を提供する。
効果 より均一な量子ドット特性を奏するシリコンナノ粒子を得ることのできる、化学エッチング法によるシリコンナノ粒子の製造方法が提供される。
技術概要
化学エッチング法によりシリコン粉末からシリコンナノ粒子を製造するシリコンナノ粒子の製造方法であって、
分散されたシリコン粉末を含む水系溶媒にフッ化水素酸を添加して反応混合物を調製する第一投入工程と、
前記第一投入工程を経た前記反応混合物に、シリコン粒子の表面を酸化させる作用を備えた酸化剤を添加する第二投入工程と、
前記第二投入工程を経た前記反応混合物に対して、前記反応混合物を混合させるための外力を加えながら前記フッ化水素酸と前記酸化剤との作用により前記シリコン粉末に含まれるシリコン粒子を細径化させるエッチング工程と、を備えることを特徴とするシリコンナノ粒子の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 東京電機大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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