ホウ素添加酸化亜鉛薄膜からなる低摩擦コーティングおよびマイクロマシン

開放特許情報番号
L2020000710
開放特許情報登録日
2020/4/8
最新更新日
2020/4/8

基本情報

出願番号 特願2017-520794
出願日 2016/5/25
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 WO2016/190375
公開日 2016/12/1
登録番号 特許第6548130号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 ホウ素添加酸化亜鉛薄膜からなる低摩擦コーティングおよびマイクロマシン
技術分野 金属材料、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 ホウ素(B)添加酸化亜鉛薄膜からなる低摩擦コーティング
目的 酸化亜鉛薄膜の一層の低摩擦化を図る。
効果 酸化亜鉛薄膜にホウ素(B)を添加し、測定点の90%以上で、発現する縦方向および横方向のピエゾ分極をそれぞれ一定の値以下となるようにしたので、B添加酸化亜鉛薄膜のナノメートルオーダーの摩擦力を非常に小さくできる。
技術概要
ホウ素添加酸化亜鉛薄膜からなる低摩擦コーティングであって、
前記ホウ素添加酸化亜鉛薄膜は、20nm〜50nmの粒径を有する結晶からなり、
前記ホウ素添加酸化亜鉛薄膜中のホウ素の質量比は、5%〜30%の範囲であり、
膜面に対して垂直な縦方向および水平な横方向のピエゾ分極を発現しており、測定点の90%以上で、前記縦方向のピエゾ分極の大きさが150pm以内でありかつ横方向のピエゾ分極の大きさが100pm以内である、低摩擦コーティング。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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