目的
高い磁気抵抗比を実現するために必要な強磁性層を(001)に配向させた単結晶磁気抵抗素子を提供する。
効果
大口径のSi基板上に、MgO基板上と同様の、配向を有する単結晶素子を有する単結晶磁気抵抗素子を提供できると共に、ホイスラー合金を用いた単結晶巨大磁気抵抗素子を実デバイスへ応用するための量産性と低価格化を実現するのに必要とされる基幹的な単結晶磁気抵抗素子を提供できる。
技術概要
シリコン基板と、
このシリコン基板に積層されたB2構造の下地層と、
当該B2構造の下地層に積層された第1の非磁性層と、
下部強磁性層及び上部強磁性層、並びに当該下部強磁性層と当該上部強磁性層の間に設けられた第2の非磁性層を有する積層体層を少なくとも一つ有する巨大磁気抵抗効果層と、
を備えることを特徴とする磁気抵抗素子。