Ｘ線撮像装置及びその使用方法
- 開放特許情報番号
- L2020000689
- 開放特許情報登録日
- 2020/4/3
- 最新更新日
- 2020/4/3
基本情報
| 出願番号 | 特願2017-079620 |
|---|---|
| 出願日 | 2012/8/10 |
| 出願人 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2017/8/17 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 発明の名称 | Ｘ線撮像装置及びその使用方法 |
| 技術分野 | 情報・通信 |
| 機能 | 機械・部品の製造 |
| 適用製品 | Ｘ線撮像装置 |
| 目的 | 十分な空間分解能が得られる検出器が利用できない場合にも対応する為に、強度情報しか得られない通常のＸ線の検出器によっても、同じ試料のなかの薄膜・多層膜の構造の違いを画像化できるＸ線の撮像装置及び方法を提供する。 |
| 効果 | Ｘ線検出器の空間分解能が低い場合でも、同じ試料のなかの薄膜・多層膜の構造の違いを画像化できるＸ線撮像装置及び方法が得られる。 |
技術概要) |
試料の特定深さの電子密度について面内の不均一分布をＸ線反射率法により取得し画像化する方法であって、
所定厚さで所定幅を有する線状の単色Ｘ線ビームを前記試料に照射し、 前記試料から反射された前記Ｘ線ビームを、Ｘ線検出器の分解能と比較して小さな形状の開口部が所定の符号化規則で配置されたアダマールマスクによって符号化し、 前記アダマールマスクを前記反射されたＸ線ビームの長手方向と平行な方向に走査し、 前記アダマールマスクの走査によって得た時系列のＸ線強度プロファイルデータを記憶し、 画像化演算装置に、前記時系列のＸ線強度プロファイルデータを入力して、前記画像化演算装置が前記符号化規則に対する逆変換を行うと共に、画像再構成演算を行なうＸ線撮像方法であって、 前記試料が薄膜・多層膜である場合に、コーティングされている貴金属の臨界角に固定した上で、前記試料から反射された前記Ｘ線ビームの全反射が生じる現象を利用して、前記貴金属でコーティングされている部分とそうでない部分を高いコントラストで画像化することを特徴とするＸ線撮像方法。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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