液体処理による無機表面の疎水化あるいは損傷補修

開放特許情報番号
L2020000644
開放特許情報登録日
2020/3/18
最新更新日
2020/3/18

基本情報

出願番号 特願2005-045792
出願日 2005/2/22
出願人 JSR株式会社
公開番号 特開2006-237072
公開日 2006/9/7
登録番号 特許第4877452号
特許権者 JSR株式会社
発明の名称 表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、半導体装置およびその製造方法
技術分野 電気・電子、無機材料、化学・薬品
機能 材料・素材の製造、表面処理
適用製品 表面疎水化を求められる無機材料
目的 表面の疎水化、損傷補修
効果 液体処理で無機材料の表面を疎水化する
技術概要
 
ジアセトキシメチルシランと非プロトン性溶媒とを含むケイ素系基材の表面疎水化用組成物を表面に接触させた状態で加熱する
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 JSR株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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