| 出願番号 |
特願2008-178845 |
| 出願日 |
2008/7/9 |
| 出願人 |
宇部エクシモ株式会社 |
| 公開番号 |
特開2009-208062 |
| 公開日 |
2009/9/17 |
| 登録番号 |
特許第5511159号 |
| 特許権者 |
宇部エクシモ株式会社 |
| 発明の名称 |
光触媒膜、光触媒膜の製造方法、物品および親水化方法 |
| 技術分野 |
機械・加工、化学・薬品 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
光触媒膜、光触媒膜の製造方法、物品および親水化方法 |
| 目的 |
酸化チタン表面に特段の処理をせずに、また基材との間に特別な中間層を設ける必要がなく、太陽光源照射下で光励起超親水性を示すが、有機物に対する分解活性が抑制された新規な光触媒膜を提供する。また、光触媒膜を効率よく製造する方法、光触媒膜を表面に有する物品、該物品を用いた親水化方法を提供する。 |
| 効果 |
酸化チタン表面に特段の処理を施さずに、また基材との間に特別な中間層を設ける必要がない、太陽光源照射下で光励起超親水性を示すが、有機物に対する分解活性が抑制された新規な光触媒膜、光触媒膜を効率よく製造する方法、光触媒膜を表面に有する物品、該物品を用いた親水化方法を提供することができる。 |
技術概要
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結晶径が１〜１０ｎｍの範囲内にある光半導体結晶化物を少なくとも一方の主表面に含有し、光照射によって前記主表面が親水化する光触媒膜であって、暗所保持後に半値幅１５ｎｍ以下の光を照射した場合の親水化速度が、照射光の波長が３７０ｎｍ以上の領域では、２（１／ｄｅｇ／ｍｉｎ／１０↑５）未満であり、かつ照射光の波長が３００〜３６０ｎｍの領域の少なくとも一部では、２（１／ｄｅｇ／ｍｉｎ／１０↑５）以上であることを特徴とする光触媒膜。 |
| 実施実績 |
【有】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【可】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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