シリカ系コーティング剤、それを用いたシリカ系薄膜および構造体

開放特許情報番号
L2020000404
開放特許情報登録日
2020/3/2
最新更新日
2020/3/2

基本情報

出願番号 特願2005-166144
出願日 2005/6/6
出願人 宇部日東化成株式会社
公開番号 特開2006-336002
公開日 2006/12/14
登録番号 特許第4996832号
特許権者 宇部エクシモ株式会社
発明の名称 シリカ系コーティング剤、それを用いたシリカ系薄膜および構造体
技術分野 化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 シリカ系コーティング剤、それを用いたシリカ系薄膜およびシリカ系薄膜を有する構造体
目的 200℃以下の低温での乾燥、熱処理により安定でち密なシリカ系薄膜を、有機基材を始め各種基材上に形成し得るシリカ系コーティング剤、このシリカ系コーティング剤を用いて形成されたシリカ系薄膜、および該シリカ系薄膜を有する構造体を提供する。
効果 200℃以下の低温での乾燥、熱処理により安定でち密なシリカ系薄膜を、有機基材を始め各種基材上に形成し得るシリカ系コーティング剤、このシリカ系コーティング剤を用いて形成されたシリカ系薄膜、および該シリカ系薄膜を有する構造体を提供することができる。
技術概要
 
テトラアルコキシシラン、この部分加水分解物およびその縮合物であるオリゴマーの中から選ばれる少なくとも1種を加水分解、縮合させてなるシリカゾルに、一般式(II)
R↑2↓nSi(OR↑3)↓(4-n)…(II)
(式中、R↑2は水素原子、フッ素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基又はビニル基、R↑3は炭素数1〜10のアルキル基、nは1〜3の整数を示す。)
で表されるオルガノアルコキシシランを共重合させて得られたポリオルガノシロキサンを含むシリカ系コーティング剤、このコーティング剤を用いて形成してなるシリカ系薄膜および該シリカ系薄膜を含む構造体である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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