MCM−68のトポロジーを持つ結晶性多孔質シリケート及びその製法

開放特許情報番号
L2020000353
開放特許情報登録日
2020/2/17
最新更新日
2020/2/17

基本情報

出願番号 特願2006-244056
出願日 2006/9/8
出願人 国立大学法人横浜国立大学
公開番号 特開2008-063195
公開日 2008/3/21
登録番号 特許第5017642号
特許権者 国立大学法人横浜国立大学
発明の名称 MCM−68のトポロジーを持つ結晶性多孔質シリケート及びその製法
技術分野 化学・薬品、無機材料
機能 検査・検出
適用製品 ゼオライトMCM−68のトポロジーを有し、Alを全く含まない結晶性多孔質シリケート及びその製法
目的 ゼオライトMCM−68のトポロジーを有し、Alを全く含まない結晶性多孔質シリケート及びその製法を提供する。
効果 Alを全く含まない結晶性多孔質シリケートは、粉末X線回折のピークが鋭く(半値幅が狭い)、結晶性が高いため、熱安定性、水熱安定性が高く、耐久性に優れた材料となりうる。欠損をSi原子で埋めれば、MCM−68トポロジーをもち、なおかつ全シリカ組成をもつシリケートとなる。また、欠損を部分的にSi原子で埋め、残った欠損をさらに他の金属原子で埋めれば、MCM−68の骨格をもつ各種メタロシリケートが得られる。
技術概要
組成式R↓4Si↓(112−n)O↓(232−m)H↓(8+4n−2m)(式中、n=0〜12、m=0〜n、RはN,N,N',N'−テトラアルキルビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3:5,6−ジピロリジニウム(但し、アルキル基は、その炭素数が4以下であり、同じであっても異なってもよい。)で表され、下記の値を含むX線回折パターンをもつ合成したままの(as-synthesized)結晶性多孔質シリケート。
2θ(単位:度)=6.88±0.10、8.16±0.10、8.84±0.10、9.72±0.10、19.48±0.10、21.82±0.10、22.70±0.10、23.24±0.10、ただし、2θ=23.24±0.10のピークの半値幅は0.20度以下である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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