高帯域原子間力顕微鏡装置

開放特許情報番号

L2020000349

開放特許情報登録日

2020/2/17

最新更新日

2020/2/17

基本情報

出願番号	特願2006-277583
出願日	2006/10/11
出願人	国立大学法人横浜国立大学
公開番号	特開2008-096251
公開日	2008/4/24
登録番号	特許第4904495号
特許権者	国立大学法人横浜国立大学
発明の名称	高帯域原子間力顕微鏡装置
技術分野	情報・通信
機能	機械・部品の製造
適用製品	高帯域原子間力顕微鏡装置
目的	ＡＦＭで計測する物体の表面形状を、高精度で推定することを可能にし、フィードバック制御系が受ける制約を緩和して、高帯域のＡＦＭを提供する。
効果	ＡＦＭで計測する物体の表面形状を推定する外乱オブザーバである表面形状オブザーバ（ＳＴＯ）は、フィードバックループとは独立な開ループで実現され、本発明に係るＡＦＭの帯域は、閉ループ方式の安定性に影響を与えることはないため、フィードバック制御系よりも高帯域化されたＡＦＭを提供することができる。
技術概要	試料表面の表面形状を推定する高帯域原子間力顕微鏡装置であって、 前記試料表面と原子間力を介して相互作用する探針を有し、前記原子間力によってたわみ、摩擦力によってゆがみを生ずるカンチレバと、 前記カンチレバに向けて第１のレーザ光を入射するレーザ光提供手段と、 前記カンチレバが前記第１のレーザ光を反射することにより発せられた第２のレーザ光を検出する光検出手段と、 前記試料を載せたピエゾと、 前記カンチレバの変位が一定になるように、前記試料表面と前記探針との間の距離を前記ピエゾに入力電圧を入力することにより制御し、前記第２のレーザ光の強度の相対変化から前記カンチレバの前記たわみと前記ゆがみとを出力電圧として検出し、前記出力電圧から前記試料表面の表面形状を推定するコントローラと、 推定された前記表面形状を記録するデータ記憶手段とを備え、 前記コントローラは、前記入力電圧と前記出力電圧とを入力とし、前記出力電圧から得られる前記試料表面の表面形状を外乱オブザーバとみなして、前記試料表面の表面形状を推定することを特徴とする高帯域原子間力顕微鏡装置。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	国立大学法人横浜国立大学

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】