断層構造の観測方法、観測装置、及びコンピュータプログラム
- 開放特許情報番号
- L2020000339
- 開放特許情報登録日
- 2020/2/14
- 最新更新日
- 2020/4/20
基本情報
出願番号 | 特願2015-206611 |
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出願日 | 2015/10/20 |
出願人 | 国立大学法人 和歌山大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2017/4/27 |
登録番号 | |
特許権者 | 国立大学法人 和歌山大学 |
発明の名称 | 断層構造の観測方法、観測装置、及びコンピュータプログラム |
技術分野 | 情報・通信、電気・電子 |
機能 | 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア |
適用製品 | 断層構造の観測方法、観測装置、及びコンピュータプログラム |
目的 | 光吸収層を有する断層構造を光コヒーレンストモグラフィによって観測する。 |
効果 | 断層構造が光吸収層を有していても、測定光は吸収されないため、光のスペクトルの変化を防止できる。したがって、光吸収層の層厚の計算に、光吸収層の一定の屈折率を用いることができる。 |
技術概要 |
観測対象である断層構造を光コヒーレンストモグラフィにより観測する方法であって、
光源スペクトルの少なくとも一部の波長の光を吸収する光吸収物質からなる光吸収層を有する前記断層構造に、光源から測定光を照射するステップと、 前記測定光が前記断層構造から反射した反射光と参照光との干渉光に基づいて、前記断層構造の反射光プロファイルを生成するステップと、 前記反射光プロファイルと、それぞれが異なる層厚の模擬光吸収層を有する複数の模擬断層構造における複数の光伝搬シミュレーション結果と、を比較するステップと、 前記反射光プロファイルに最も合致する光伝搬シミュレーション結果を得るためのシミュレーションの対象となった前記模擬光吸収層の層厚を、前記観測対象である前記断層構造が有する前記光吸収層の層厚として決定するステップと、 を含む観測方法。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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