積層体、および薄膜の製造方法

開放特許情報番号
L2020000303
開放特許情報登録日
2020/2/7
最新更新日
2020/2/7

基本情報

出願番号 特願2017-161385
出願日 2017/8/24
出願人 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所
公開番号 特開2019-038715
公開日 2019/3/14
発明の名称 積層体、および薄膜の製造方法
技術分野 無機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 積層体、および薄膜の製造方法
目的 望ましい磁気特性を有する四重ペロブスカイト化合物の薄膜およびその製造方法の提供。
効果 望ましい磁気特性を有する四重ペロブスカイト化合物の薄膜およびその製造方法を提供することができる。
技術概要
擬立方晶表記で格子定数が3.5〜3.8Åである化合物からなる単結晶の基板と、
前記基板上に積層された、下記式(1)で表される化合物からなる薄膜と、を備えることを特徴とする積層体。
RCu↓3(Mn↓4−xM↓x)O↓12・・・(1)
[式中、Rは、希土類元素、または2種以上の希土類元素の組み合わせ、または1種以上の希土類元素とCaとの組み合わせ(ただし、Rに占めるCaの割合が50%以下)を示し、
Mは、Al、Ti、V、Cr、Fe、Co、Ni、RuおよびReからなる群より選択される1種の元素を示し、
0≦x≦2を満たす。]
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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