反応現像画像形成法

開放特許情報番号
L2020000270
開放特許情報登録日
2020/2/5
最新更新日
2020/2/5

基本情報

出願番号 特願2012-193009
出願日 2012/9/3
出願人 国立大学法人横浜国立大学
公開番号 特開2014-048562
公開日 2014/3/17
登録番号 特許第6054104号
特許権者 国立大学法人横浜国立大学
発明の名称 反応現像画像形成法
技術分野 情報・通信、有機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 半導体集積回路、プリント配線基板又は液晶パネル等の製造に用いることのできるフォトレジスト技術
目的 ポリイミド樹脂に基づくフォトレジストを形成するための「反応現像画像形成法」を改良して、現像液としてアルカリ水溶液を用い、現像時間が短い現像工程を経てポジ型画像を形成するフォトレジスト技術を提供する。
効果 酸二無水物と低分子量のジアミン化合物とを反応させてなる、この酸二無水物が脂環式酸二無水物を含有するポリイミド樹脂及び光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて成膜し、紫外線を照射して、アルカリ水溶液から成る現像液を用いて現像したところ、短い現像時間で、ポジ型のフォトレジストを形成することができる。
技術概要
ポリイミド樹脂及び光酸発生剤を含有するポジ型フォトレジスト構造物を形成させるための感光性樹脂組成物であって、該ポリイミド樹脂が酸二無水物と下式
【化1】

(式中、R↑1は、炭素数が6以下の炭化水素基を表し、R↑2は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基又はフルオロアルキル基を表し、nは0〜4を表す。但し、nはR↑1の炭素数以下である。)で表されるジアミン化合物とを反応させてなる、該酸二無水物が脂環式酸二無水物を含有する感光性樹脂組成物。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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