光学測定装置、光学測定方法、及び応力検査方法

開放特許情報番号
L2020000036
開放特許情報登録日
2020/1/15
最新更新日
2020/1/15

基本情報

出願番号 特願2018-537278
出願日 2017/8/28
出願人 学校法人慶應義塾
公開番号 WO2018/043438
公開日 2018/3/8
発明の名称 光学測定装置、光学測定方法、及び応力検査方法
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造、検査・検出
適用製品 テラヘルツ光を用いた偏光測定と、これを利用した非接触の応力検査
目的 テラヘルツ偏光測定装置を用いて、サンプル内部の状態、特に添加物を含む高分子材料の内部状態を非破壊・非接触で簡易に測定できる構成と手法を提供する。
効果 サンプル内部の状態、特に添加物を含む高分子材料の内部状態を非破壊・非接触で簡易に測定することができる。
技術概要
テラヘルツ光源と、
前記テラヘルツ光源から出射されサンプルを透過または反射されたテラヘルツ光を検出する検出器と、
サンプル位置と前記検出器の間に配置されて前記サンプルからの前記テラヘルツ光の偏光を変化させる光学素子と、
前記光学素子による前記偏光の変化を制御する偏光制御手段と、
前記検出器で検出されたテラヘルツ光から偏光成分を検出し、検出した前記偏光成分に基づいて前記サンプルの固有軸の向きと屈折率異方性を決定する解析部と、
を有することを特徴とする光学測定装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 学校法人慶應義塾

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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