骨成長の促進特性を有する生体埋植材及びその製造方法
- 開放特許情報番号
- L2019002293
- 開放特許情報登録日
- 2019/12/12
- 最新更新日
- 2022/9/21
基本情報
出願番号 | 特願2018-096756 |
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出願日 | 2018/5/21 |
出願人 | 学校法人早稲田大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2019/11/28 |
登録番号 | |
特許権者 | 学校法人早稲田大学 |
発明の名称 | 骨成長の促進特性を有する生体埋植材の製造方法 |
技術分野 | 食品・バイオ、化学・薬品 |
機能 | 材料・素材の製造 |
適用製品 | 骨成長の促進特性を有する生体埋植材及びその製造方法 |
目的 | 生体に埋植後、細胞増殖性及び早期のオッセオインテグレーション成立をもたらす生体埋植材を再現性良く安定して提供するための製造方法、及び、該生体埋植材を提供する。 |
効果 | 細胞の3次元培養が可能となる均質な足場を安定的に提供し、配向性を持った組織形成に繋がる細胞培養も行うことができる。また、本発明の骨成長の促進特性を有する生体埋植材は、組織工学や再生医療の分野で利用できる。 |
技術概要![]() |
基材の外表面に金属からなる被覆層を有する生体埋植材の製造方法であって、
前記被覆層は、ナノメートルオーダーの周期的微細構造パターンを有し、 a. 基板上にイオンビームスパッタ法により基材層を成膜する工程、 b. 前記基材層上にエッチングマスクとして、紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線硬化性樹脂層を形成する工程、 c. 紫外線ナノインプリト(UV-NIL)法により前記紫外線硬化性樹脂層に、レジストパターンを形成する工程、 d. 反応性イオンエッチング(RIE)法により前記レジストパターンに基づいたパターンを有する周期的微細構造パターンを前記基材層に形成する工程、 e. アッシングによりレジストパターンを除去する工程、及び、 f. 前記周期的微細構造パターンが形成された基材層上に、金属を含む被覆層を成膜する工程、 を含むことを特徴とする、製造方法。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
アピール情報
アピール内容 | 本件は、『早稲田大学技術シーズ集(問合NO.2042)』に掲載されている案件です。 |
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登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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