| 出願番号 |
特願2009-086011 |
| 出願日 |
2009/3/31 |
| 出願人 |
ＪＳＲ株式会社 |
| 公開番号 |
特開2010-083744 |
| 公開日 |
2010/4/15 |
| 登録番号 |
特許第5348400号 |
| 特許権者 |
ＪＳＲ株式会社 |
| 発明の名称 |
シリカ粒子分散液およびその製造方法 |
| 技術分野 |
化学・薬品、無機材料 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
シリカ粒子分散液およびその製造方法 |
| 目的 |
緻密な外部および複数の孔を有する内部から構成された低屈折率のシリカ粒子を提供する。また、従来よりも簡便な低屈折率のシリカ粒子の製造方法を提供する。 |
| 効果 |
従来よりも簡便な手法によって、低屈折率のシリカ粒子を含有するシリカ粒子分散液を得ることができる。 |
技術概要
 |
↑２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル法により測定されたスペクトルにおいて、化学シフト−９４ｐｐｍ〜−１０３ｐｐｍに発現するピークのシグナル面積をＱ３とし、化学シフト−１０３ｐｐｍ〜−１１５ｐｐｍに発現するピークのシグナル面積をＱ４とした場合、
Ｑ４／Ｑ３の値が０．５〜５．０であるシリカ粒子未処理体であって、ゾルゲル法を使用して形成されたシリカ粒子未処理体を水熱処理する工程を含み、
前記工程により、緻密な外部および複数の孔を有する内部から構成されているシリカ粒子が形成される、シリカ粒子分散液の製造方法。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【可】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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