シリカ系中空粒子の製造方法

開放特許情報番号
L2019002195
開放特許情報登録日
2019/12/2
最新更新日
2019/12/2

基本情報

出願番号 特願2008-213614
出願日 2008/8/22
出願人 JSR株式会社
公開番号 特開2009-067671
公開日 2009/4/2
登録番号 特許第5240447号
特許権者 JSR株式会社
発明の名称 シリカ系中空粒子の製造方法
技術分野 化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 シリカ系中空粒子の製造方法
目的 コア粒子の表面にシリカ系被覆層を形成する段階において、コア・シェル粒子同士の凝集を防ぐことができるシリカ系中空粒子の製造方法を提供する。
効果 コア粒子の表面にシリカ系被覆層を形成する段階において、コア・シェル粒子同士の凝集を防ぐことができるので、分散安定性の高いコア・シェル粒子ないしシリカ系中空粒子分散体を製造することができる。
技術概要
あらかじめ疎水化処理されたコア粒子およびアニオン系界面活性剤を含有する水系媒体中で、下記一般式(1)で表される少なくとも1種の化合物を加水分解縮合させることにより、シリカ系被覆層を有するコア・シェル粒子を形成する工程、を含む、シリカ系中空粒子の製造方法。
R↑1↓dSi(OR↑2)↓4−d…(1)
(式中、R↑1、R↑2は独立して1価の有機基を表し、dは0〜3の整数を表す。)
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 JSR株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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