| 出願番号 |
特願2008-213614 |
| 出願日 |
2008/8/22 |
| 出願人 |
ＪＳＲ株式会社 |
| 公開番号 |
特開2009-067671 |
| 公開日 |
2009/4/2 |
| 登録番号 |
特許第5240447号 |
| 特許権者 |
ＪＳＲ株式会社 |
| 発明の名称 |
シリカ系中空粒子の製造方法 |
| 技術分野 |
化学・薬品、無機材料 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
シリカ系中空粒子の製造方法 |
| 目的 |
コア粒子の表面にシリカ系被覆層を形成する段階において、コア・シェル粒子同士の凝集を防ぐことができるシリカ系中空粒子の製造方法を提供する。 |
| 効果 |
コア粒子の表面にシリカ系被覆層を形成する段階において、コア・シェル粒子同士の凝集を防ぐことができるので、分散安定性の高いコア・シェル粒子ないしシリカ系中空粒子分散体を製造することができる。 |
技術概要
 |
あらかじめ疎水化処理されたコア粒子およびアニオン系界面活性剤を含有する水系媒体中で、下記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物を加水分解縮合させることにより、シリカ系被覆層を有するコア・シェル粒子を形成する工程、を含む、シリカ系中空粒子の製造方法。
Ｒ↑１↓ｄＳｉ（ＯＲ↑２）↓４−ｄ…（１）
（式中、Ｒ↑１、Ｒ↑２は独立して１価の有機基を表し、ｄは０〜３の整数を表す。） |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【可】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
)