シリカ系中空粒子の製造方法

開放特許情報番号
L2019002193
開放特許情報登録日
2019/12/2
最新更新日
2019/12/2

基本情報

出願番号 特願2008-083057
出願日 2008/3/27
出願人 JSR株式会社
公開番号 特開2009-234854
公開日 2009/10/15
登録番号 特許第5223411号
特許権者 JSR株式会社
発明の名称 シリカ系中空粒子の製造方法
技術分野 化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 シリカ系中空粒子の製造方法
目的 コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子からコア粒子の一部または全部を除去する工程において、シリカ系中空粒子の凝集を防ぐこと
ができるシリカ系中空粒子の製造方法を提供する。
効果 コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子からコア粒子の一部または全部を除去する工程において、シリカ系中空粒子の凝集を防ぐことができるので、分散安定性の高いシリカ系中空粒子を製造することができる。
技術概要
コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子を分散させた水及びアルコールの混合分散媒中に、無機酸を加えて、コア粒子の一部または全部を除去する工程、を含み、
水とアルコールの重量比が9:1〜1:9であることを特徴とするシリカ系中空粒子の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 JSR株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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