ナノドット形成方法

開放特許情報番号
L2019002018
開放特許情報登録日
2019/12/18
最新更新日
2019/12/18

基本情報

出願番号 特願2010-174104
出願日 2010/8/3
出願人 国立大学法人東京工業大学
公開番号 特開2012-030340
公開日 2012/2/16
登録番号 特許第5652817号
特許権者 国立大学法人東京工業大学
発明の名称 ナノドット形成方法
技術分野 機械・加工、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 ナノドット形成方法
目的 ナノドットの大きさや密度を所望に制御可能であるナノドット形成方法を提供しようとする。
効果 ナノドットの大きさや密度を所望に制御可能であるという利点がある。
技術概要
規則的に配置されるナノドットを形成するナノドット形成方法であって、該方法は、
基板を提供する過程と、
基板上に金属薄膜を形成する過程と、
形成すべきナノドットに対応する所望の微細パターン形状を有する押し込み工具を、金属薄膜が貫通しない程度に金属薄膜上に押し込み、金属薄膜上に所望の格子状の微細パターンの溝を形成する過程と、
金属薄膜に溝が形成された基板を、金属薄膜の融点以下の温度で焼鈍する過程であって、金属薄膜の溝の部分に生ずる歪エネルギと表面エネルギが駆動力となり格子状の微細パターンの溝に沿って金属薄膜が分離すると共に金属薄膜が分離後に自己組織化により格子内に1つずつの球状のナノドットとなる、焼鈍する過程と、
を具備することを特徴とするナノドット形成方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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