真空作成装置

開放特許情報番号
L2019001785
開放特許情報登録日
2019/10/11
最新更新日
2019/10/11

基本情報

出願番号 特願2017-218434
出願日 2017/11/13
出願人 国立研究開発法人情報通信研究機構
公開番号 特開2019-091576
公開日 2019/6/13
発明の名称 真空作成装置
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 真空作成装置
目的 コンパクトであっても,イオンポンプとゲッターポンプとを併用できる真空作成装置を提供する。
効果 コンパクトであっても,イオンポンプとゲッターポンプとを併用できる真空作成装置が提供できかつ中空空間を確保できることにより内部に機能性ユニットを配置する事が可能である。
技術概要
円筒状のケーシング(1)と,
前記円筒状のケーシング(1)の円筒部分の外側から前記円筒状のケーシングを加熱するためのヒータ(3)を取り付けるためのヒータ取り付け部(5)と,
前記円筒状のケーシング(1)の内壁と接触し,前記ヒータ(3)からの熱が伝わるゲッターエレメント(9)とを含む,
真空作成装置(11)。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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