水溶性又は水分散性高分子を利用した構造物からの放射性物質除染溶液及び該放射性物質除染溶液を用いた放射性物質除染方法
- 開放特許情報番号
- L2019001677
- 開放特許情報登録日
- 2019/9/25
- 最新更新日
- 2019/9/25
基本情報
出願番号 | 特願2012-045993 |
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出願日 | 2012/3/2 |
出願人 | 国立大学法人茨城大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2013/9/12 |
登録番号 | |
特許権者 | 国立大学法人茨城大学 |
発明の名称 | 水溶性又は水分散性高分子を利用した構造物からの放射性物質除染溶液及び該放射性物質除染溶液を用いた放射性物質除染方法 |
技術分野 | 情報・通信、機械・加工 |
機能 | 材料・素材の製造 |
適用製品 | 放射性物質除染溶液及び該放射性物質除染溶液を用いた放射性物質除染方法 |
目的 | 放射性物質が付着した構造物の表面から該放射性物質の量を人体に影響が出ないレベルまで、迅速、且つ効率的で効果的に低減するために利用できる放射性物質除染溶液及び該放射性物質除染溶液を用いた放射性物質除染方法を提供する。 |
効果 | 放射性物質が付着した構造物表面に塗布し、乾燥して形成した高分子フィルムを剥離除去することによって除染を行うため、該放射性物質の付着量の大幅な低減を迅速に、且つ効率的で効果的に行うことができる。 |
技術概要 |
少なくとも
(a)ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル及びエチレンービニルアルコール共重合体から選ばれる少なくともいずれか1種の水溶性又は水分散性高分子、 (b)ベントナイト及びゼオライトから選ばれる少なくともいずれか一つの無機系の放射性物質吸着剤、 (c)水溶性可塑剤、水分散性可塑剤及び界面活性剤から選ばれる少なくとも1種の化合物、及び (d)水を主成分とする水系媒体、を含有し、 前記(a)〜(d)の各成分の合計量を100質量部としたときに、前記の(a)成分、(b)成分、及び(c)成分の含有量はそれぞれ4〜50質量%、0.1〜20質量%、及び0.2〜6質量%であり、残余は前記の(d)成分で構成されることを特徴とする構造物からの放射性物質除染溶液。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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