酸化亜鉛透明導電膜の製造方法及びこの方法を実施するための製造装置

開放特許情報番号
L2019001659
開放特許情報登録日
2019/9/20
最新更新日
2019/9/20

基本情報

出願番号 特願2009-113721
出願日 2009/5/8
出願人 国立大学法人茨城大学
公開番号 特開2010-261084
公開日 2010/11/18
登録番号 特許第5507882号
特許権者 国立大学法人茨城大学
発明の名称 酸化亜鉛透明導電膜の製造方法及びこの方法を実施するための製造装置
技術分野 金属材料、電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 透明導電膜の製造方法及びこれを実施するための製造装置
目的 低抵抗率の酸化亜鉛透明導電膜を、製造過程における堆積速度を増大させると共に省エネルギー化を図りながら、スパッタ法と熱CVD以外の手段によって、大面積化を可能とするプラズマ合成法により製造する酸化亜鉛透明導電膜の製造方法及びこの方法を実施するための製造装置を提供する。
効果 透明性導電材料の製造にあたり、使用材料として毒性がなく流通量の大きい非レアメタルである亜鉛Znが使用できる利点がある。また、プロセス中にドーピング処理等の高エネルギーイオンの照射を伴わないため、耐熱性の低い素材、例えば、低融点の透明基板材料であるエンジニアリングプラスチックシートやその他の高分子透明材料を基板として使用することができる。
技術概要
プラズマ用の閉空間部と、
上記閉空間部内部へ酸素ガスを導入するための導入手段と、
上記閉空間部内部にプラズマを生成させるための電源手段と、
シャッタ窓を有し、内部に絶縁性の透明基板を装填した基板保持具と、
蒸発口を有し、内部の加熱空間内に亜鉛ショット又は亜鉛成形物を搭載したバレットが載置されたオーブンと、
を備え、上記基板保持具のシャッタ窓と上記オーブンの蒸発口とが上記閉空間部内部で互いに対向するような位置関係となるように配置して、上記絶縁性の透明基板に酸化亜鉛透明導電膜を堆積させる製造方法である酸化亜鉛透明導電膜の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2019 INPIT