出願番号 |
特願2008-246074 |
出願日 |
2008/9/25 |
出願人 |
地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター |
公開番号 |
特開2009-096191 |
公開日 |
2009/5/7 |
登録番号 |
特許第5399034号 |
特許権者 |
地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター |
発明の名称 |
微細成形型および微細成形型用基材並びに微細成形型の製造方法 |
技術分野 |
機械・加工、電気・電子 |
機能 |
機械・部品の製造 |
適用製品 |
微細成形型および微細成形型用基材並びに微細成形型の製造方法 |
目的 |
コート材や潤滑材を塗布することなく離型性を高めた微細成形型および微細成形型用基材並びに微細成形型の製造方法を提供する。 |
効果 |
コート材や潤滑材を塗布することなく離型性を高めた微細成形型および微細成形型用基材並びに微細成形型の製造方法を得ることができる。 |
技術概要
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基材の表面に微細な凹凸部が形成された微細成形型であって、
前記基材の表面から注入した注入イオンの濃度が他の部分よりも高い部分であって、該注入イオンの濃度がピーク濃度から20%低下するまでの範囲である高濃度注入イオン層が、前記基材の前記表面から一定の距離を置いた部分に、前記表面および前記基材の裏側にあたる裏面に沿って、かつ該裏面との間隔が一定になるように形成され、
前記高濃度注入イオン層が前記基材の表面から前記凹凸部の底部までの間に配置され、
前記注入イオンが炭素イオン、フッ素イオンまたは塩素イオンのいずれかにより構成されていることを特徴とする微細成形型。 |
実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【否】
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特許権実施許諾 |
【可】
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