半導体装置および測定装置

開放特許情報番号
L2019001321
開放特許情報登録日
2019/9/2
最新更新日
2019/9/2

基本情報

出願番号 特願2016-044454
出願日 2016/3/8
出願人 国立大学法人東京工業大学
公開番号 特開2017-162910
公開日 2017/9/14
発明の名称 半導体装置および測定装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 半導体装置および測定装置
目的 内部の物理パラメータを測定することができる半導体装置および測定装置を提供すること。
効果 内部の物理パラメータを測定することができる。
技術概要
複数の半導体層と、
少なくとも1つの半導体層内に配置され、配置された半導体層内の特徴量に応じた信号を出力するセンサ部と
を備えることを特徴とする半導体装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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