粉体ないしは粒子の集まりを連続して加熱処理する加熱処理装置

開放特許情報番号
L2019001141
開放特許情報登録日
2019/7/10
最新更新日
2019/7/10

基本情報

出願番号 特願2014-086836
出願日 2014/4/2
出願人 小林 博
公開番号 特開2015-196156
公開日 2015/11/9
登録番号 特許第6327920号
特許権者 小林 博
発明の名称 粉体ないしは粒子の集まりを連続して加熱処理する加熱処理装置
技術分野 機械・加工、化学・薬品、無機材料
機能 機械・部品の製造
適用製品 粉体ないしは粒子の集まりに連続して加熱処理が行われる加熱処理装置
目的 第一に、大量の粉体ないしは粒子が加熱処理できる、第二に、粉体ないしは粒子に温度むらが発生しにくい、第三に、粉体ないしは粒子の昇温速度が制御できる、第四に、粉体ないしは粒子の昇温温度が制御できる、これら4つの要件を兼備して粉体ないしは粒子が加熱処理される加熱処理装置を実現する。
効果 第一に、大量の粉体ないしは粒子が加熱処理できる。第二に、粉体ないしは粒子に温度むらが発生しない。第三に、粉体ないしは粒子の昇温速度が制御できる。第四に、粉体ないしは粒子の昇温温度が制御できる。これら4つの要件を兼備して、粉体ないしは粒子の集まりを連続して加熱処理する加熱処理装置を実現すること。
技術概要
粉体ないしは粒子の集まりを浮遊状態で移動させる移動手段と、移動する粉体ないしは粒子の集まりを連続して加熱する加熱手段とからなる加熱処理装置であり、移動手段を、粉体ないしは粒子の集まりが、スパイラル状の3次元曲線からなる通路を連続して移動する第一の特徴と、通路が形成するエリアに加熱手段を配置した第二の特徴と、通路に気体の流れが導入される第三の特徴と、導入される気体の流速が変えられる第四の特徴とからなる移動手段であり、加熱手段を、複数個の電磁波発生源から構成される第一の特徴と、電磁波発生源は出力レベルが変えられる第二の特徴と、電磁波発生源は、粉体ないしは粒子の集まりが通過する通路への配置位置が変えられる第三の特徴と、複数個の電磁波発生源からの電磁波の集まりが、通路を連続して移動する粉体ないしは粒子の集まりに常時照射される第四の特徴とからなる加熱手段であり、4つの特徴を兼備する移動手段と、4つの特徴を兼備する加熱手段とから構成されることを特徴とする、粉体ないしは粒子の集まりを連続して加熱処理する加熱処理装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 粉体ないしは粒子の集まりは、スパイラル状の3次元曲線の通路を連続して移動し、該通路に、粉体ないしは粒子の加熱手段と、気体の流速が変えられる気体を導入する手段とを設けることで、粉体ないしは粒子を昇温する速度と昇温する温度とが自在に変えられる加熱処理装置である。この加熱処理装置を用いることによって、粉体ないしは粒子が、予め決めた昇温速度で、予め決めた温度に昇温され、大量の粉体ないしは粒子が、同一の条件で加熱処理される、粉体ないしは粒子の集まりを連続して加熱処理する装置である。

登録者情報

登録者名称 小林 博

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2019 INPIT