含窒素芳香族アミドの製造方法、ピロール・イミダゾールポリアミドの製造方法、及び化合物

開放特許情報番号
L2019001094
開放特許情報登録日
2019/7/5
最新更新日
2019/7/5

基本情報

出願番号 特願2018-508849
出願日 2017/3/2
出願人 国立大学法人千葉大学
公開番号 WO2017/169503
公開日 2017/10/5
発明の名称 含窒素芳香族アミドの製造方法、ピロール・イミダゾールポリアミドの製造方法、及び化合物
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 含窒素芳香族アミドの製造方法、ピロール・イミダゾールポリアミドの製造方法、及びその製造方法に用いられる化合物
目的 穏和な反応条件により得られるモノマー単位が使用可能であり、かつ、触媒的なアミド結合形成による、含窒素芳香族アミドの製造方法、ピロール・イミダゾールポリアミドの製造方法、及び新規化合物を提供すること。
効果 穏和な反応条件により得られるモノマー単位が使用可能であり、かつ、触媒的なアミド結合形成による、含窒素芳香族アミドの製造方法、ピロール・イミダゾールポリアミドの製造方法、及び新規化合物を提供することができる。
技術概要
 
一般式(1):
【化1】
〔式中、R↑1は、水素原子、又は置換基であり、A↑1は、N、又はCHである。〕で表される化合物1と、
一般式(2):
【化2】
〔式中、A↑2は、N、又はCHであり、X↑1は、ハロゲン原子であり、R↑2は、炭素数1〜6のアルキルオキシ基、又は一般式(A):*-NHR↑a(式中、R↑aは、置換基であり、*は結合部位である。)で表される基である。〕で表される化合物2とを、
遷移金属触媒及び塩基の存在下、反応させることで、
一般式(3):
【化3】
〔式中、R↑1、A↑1、A↑2、R↑2は、前記一般式(1)及び一般式(2)におけるそれぞれと同じ定義である。〕で表される化合物3を得る工程を含む、含窒素芳香族アミドの製造方法。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【有】   
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