粒子線照射システム、粒子線制御情報生成装置、粒子線照射制御装置、粒子線照射装置、および粒子線照射装置の制御方法、プログラム

開放特許情報番号
L2019000813
開放特許情報登録日
2019/6/11
最新更新日
2019/6/11

基本情報

出願番号 特願2016-236200
出願日 2016/12/5
出願人 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
公開番号 特開2018-089172
公開日 2018/6/14
発明の名称 粒子線照射システム、粒子線制御情報生成装置、粒子線照射制御装置、粒子線照射装置、および粒子線照射装置の制御方法、プログラム
技術分野 食品・バイオ、化学・薬品
機能 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 粒子線照射システム、粒子線制御情報生成装置、粒子線照射制御装置、粒子線照射装置、および粒子線照射装置の制御方法、プログラム
目的 照射標的に対して適切なビームを照射し、照射標的外への影響を最小限に抑えられた照射を可能とする粒子線照射システム、粒子線制御情報生成装置、粒子線照射制御装置、粒子線照射装置、および粒子線照射装置の制御方法、プログラムの提供。
効果 照射標的に対して適切なビームを照射し、照射標的外への影響を最小限に抑えた照射を可能とする粒子線照射システム、粒子線制御情報生成装置、粒子線照射制御装置、粒子線照射装置、および粒子線照射装置の制御方法、プログラムを提供することができる。
技術概要
粒子線ビームを照射標的に照射するための粒子線照射システムであって、
照射標的に付与すべき線量を満たすように仮想の粒子線ビームを照射する計画を作成する照射計画装置と、
前記仮想の粒子線ビームを、当該仮想の粒子線ビームの線量になるように前記仮想の粒子線ビームより鋭い複数の粒子線ビームに分裂させ、前記複数の粒子線ビームの情報を出力する照射計画変換装置と、
前記複数の粒子線ビームの情報を基に、前記複数の粒子線ビームの照射を行うように出力信号を出力する照射系制御装置と、
前記出力信号により、前記照射標的に前記複数の粒子線ビームを照射する照射機器とを
具備することを特徴とする粒子線照射システム。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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