多孔質非晶質セレン膜、撮像装置、多孔質非晶質セレン膜の製造方法、撮像装置の製造方法
- 開放特許情報番号
- L2019000791
- 開放特許情報登録日
- 2019/6/7
- 最新更新日
- 2019/6/7
基本情報
| 出願番号 | 特願2015-000869 |
|---|---|
| 出願日 | 2015/1/6 |
| 出願人 | 日本放送協会 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2016/7/11 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 日本放送協会 |
| 発明の名称 | 多孔質非晶質セレン膜、撮像装置、多孔質非晶質セレン膜の製造方法、撮像装置の製造方法 |
| 技術分野 | 電気・電子、金属材料 |
| 機能 | 材料・素材の製造 |
| 適用製品 | 多孔質非晶質セレン膜、撮像装置、多孔質非晶質セレン膜の製造方法、撮像装置の製造方法 |
| 目的 | 電子線が照射されても飛散しにくい材料およびその製造方法を提供すること。 |
| 効果 | 多孔質非晶質セレン膜に電子線が照射されると、多孔質非晶質セレン膜の有する多数の細孔に、電子線が乱反射されながら吸収される。このため、本発明の多孔質非晶質セレン膜は、電子線が照射されても飛散しにくい。したがって、本発明の多孔質非晶質セレン膜は、電子ビームランディング層および電子顕微鏡観察試料の帯電防止層の材料として好適である。 |
技術概要) |
多孔質非晶質セレン膜。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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