成膜装置及びそれを用いた成膜方法

開放特許情報番号
L2019000519
開放特許情報登録日
2019/4/19
最新更新日
2019/4/19

基本情報

出願番号 特願2016-011537
出願日 2016/1/25
出願人 国立大学法人金沢大学
公開番号 特開2017-133048
公開日 2017/8/3
発明の名称 成膜装置及びそれを用いた成膜方法
技術分野 金属材料、電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 成膜装置及び成膜方法
目的 低コストで各種目的に応じた成膜が可能な成膜装置及び方法の提供。
効果 大気圧下で発生させた非熱平衡のプラズマ(ジェット)流を成膜のための原材料に接触させ、この原材料をガス化した混合ガス流を得ることができる。
この混合ガス流を各種被成膜基材に到達するように輸送することで、この基材上に薄膜を成膜することができる。
また、スピンコート法のような溶媒が不要となり、環境負荷を低減することができる。
技術概要
大気圧非熱平衡のプラズマ流発生装置と、前記プラズマ流発生装置にて発生したプラズマ流の流路途中に成膜原材料との接触供給部とを備え、
前記接触供給部にて発生した成膜材料ガスとプラズマ流との混合ガス流を被成膜基材上に到達させることを特徴とする成膜装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2019 INPIT