炭化珪素(SiC)の成膜装置のクリーニング
- 開放特許情報番号
- L2019000502
- 開放特許情報登録日
- 2019/4/19
- 最新更新日
- 2019/4/19
基本情報
出願番号 | 特願2011-184846 |
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出願日 | 2011/8/26 |
出願人 | 大陽日酸株式会社 |
公開番号 | |
公開日 | 2013/3/4 |
登録番号 | |
特許権者 | 大陽日酸株式会社 |
発明の名称 | 炭化珪素成膜装置、及び炭化珪素除去方法 |
技術分野 | 電気・電子、化学・薬品 |
機能 | 洗浄・除去 |
適用製品 | 炭化珪素(SiC)の成膜装置のクリーニング技術 |
目的 | 炭化珪素の成膜装置のチャンバー内のクリーニングを行う。 |
効果 | 炭化珪素の成膜装置の内面のクリーニングを、インサイチュ(in−situ)で、チャンバー内の損傷を抑制しかつ短時間で行うことができる。 |
技術概要![]() |
図のような構成の成膜装置において、炭化珪素コートよりも表面状態が粗く、(111)面が多く、組成がSiリッチなチャンバー内壁の付着物は、プラズマ化したF含有ガス及びO含有ガスで優先的に除去される。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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